日本DNP实现2nm工艺光掩模图案化 迈向更精细芯片制造

日本DNP实现2nm工艺光掩模图案化 迈向更精细芯片制造

李筱舒 2025-01-06 简单报 1002 次浏览 0个评论
DNP大日本印刷本月12日宣布，成功在其光掩模制品上绘制了支持2nm及以下EUV工艺的精细光掩模图案。该企业还完成了支持High NA EUV光刻的光掩模的初步评估，并已向生态合作伙伴出样。在现代光刻系统中，光掩模上的“大图案”是晶圆上芯片

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